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產品介紹 > 無機分析及輝光放電產品

碳/硫分析儀 Carbon/Sulfur

碳/硫分析儀 CS744 Series

碳/硫分析儀 CS744 Series

可分析金屬、礦物類及其它無機材料。嶄新設計的 CS744 設備,改用 6 向式觸控螢幕操作設備,方便使用者直接在設備前操作使用,節省擺放空間;也可選擇傳統式螢幕,以因應不同操作習慣的客戶使用。全新設計的自動清潔裝置,拆裝更加簡單方便,粉塵清潔效果提升,新型的氣體流量控制器設計,可提高硫含量分析的穩定性及準確性。應用符合 ASTM、ISO 及 UOP 規範。

碳/硫分析儀 CS744 Series

碳/硫分析儀 CS744 Series

可分析金屬、礦物類及其它無機材料。嶄新設計的 CS744 設備,改用 6 向式觸控螢幕操作設備,方便使用者直接在設備前操作使用,節省擺放空間;也可選擇傳統式螢幕,以因應不同操作習慣的客戶使用。全新設計的自動清潔裝置,拆裝更加簡單方便,粉塵清潔效果提升,新型的氣體流量控制器設計,可提高硫含量分析的穩定性及準確性。應用符合 ASTM、ISO 及 UOP 規範。

碳/硫分析儀 CS844 Series

碳/硫分析儀 CS844 Series

全新設計的 CS844 設備,配合客戶多樣化的分析需求,使用燃燒技術,針對主要鋼鐵、精密金屬、礦物類及其它無機材料分析。新款操作介面,改用 6 向式觸控螢幕,方便使用者直接在設備前操作使用,節省擺放空間;也可選擇傳統式螢幕,以因應不同操作習慣的客戶使用。新一代的紅外線光源偵測器,提升其穩定性及使用性,還可選配 10 個或 60 個樣品的自動進樣裝置。應用符合 ASTM、ISO 及 UOP 規範。

碳/硫分析儀 CS844 Series

碳/硫分析儀 CS844 Series

全新設計的 CS844 設備,配合客戶多樣化的分析需求,使用燃燒技術,針對主要鋼鐵、精密金屬、礦物類及其它無機材料分析。新款操作介面,改用 6 向式觸控螢幕,方便使用者直接在設備前操作使用,節省擺放空間;也可選擇傳統式螢幕,以因應不同操作習慣的客戶使用。新一代的紅外線光源偵測器,提升其穩定性及使用性,還可選配 10 個或 60 個樣品的自動進樣裝置。應用符合 ASTM、ISO 及 UOP 規範。

多相碳/水分析儀Multi-Phase Carbon/Water

碳水分析儀 RC612

碳水分析儀 RC612

可分析有機、無機樣品中各種形態的碳含量及含水量,並且可以鑑定出幾種類型的碳含量來源,不論是表面碳、游離碳、有機碳及無機碳都能區分出來。新型的 RC612 設備應用廣泛,對於粉末狀、長條狀或管柱狀樣品類型都可進行分析。其中,針對焊劑或電極焊接劑中的含水量應用,也符合 AWS (ANSI) 規範方法。設備體積小,軟體操作簡單,設備穩定性佳。

碳水分析儀 RC612

碳水分析儀 RC612

可分析有機、無機樣品中各種形態的碳含量及含水量,並且可以鑑定出幾種類型的碳含量來源,不論是表面碳、游離碳、有機碳及無機碳都能區分出來。新型的 RC612 設備應用廣泛,對於粉末狀、長條狀或管柱狀樣品類型都可進行分析。其中,針對焊劑或電極焊接劑中的含水量應用,也符合 AWS (ANSI) 規範方法。設備體積小,軟體操作簡單,設備穩定性佳。

低含量氧分析儀Low Level Oxygen

低含量氧分析儀  O836Si

低含量氧分析儀 O836Si

這是一部專為矽晶工業(Silicon Wafers)為追求靈敏度及精密度所量身設計的低氧含量設備。同樣地,也可適用於追求靈敏度及精密度金屬工業,尤其對於電子工業中高純度銅的低氧含量分析。有關此設備更多詳細資料,請與我們連絡。

低含量氧分析儀  O836Si

低含量氧分析儀 O836Si

這是一部專為矽晶工業(Silicon Wafers)為追求靈敏度及精密度所量身設計的低氧含量設備。同樣地,也可適用於追求靈敏度及精密度金屬工業,尤其對於電子工業中高純度銅的低氧含量分析。有關此設備更多詳細資料,請與我們連絡。

氧/氮/氫分析儀Oxygen/Nitrogen/Hydrogen

氧/氮分析儀 ON736 Series

氧/氮分析儀 ON736 Series

最新推出的氧氮分析儀,利用惰性氣體熔融原理,可同時分析金屬、非金屬合金類、耐高溫材料及其它無機材料中氧及氮的含量。採用 6 向式觸控螢幕操作設備,方便使用者直接在設備前操作使用,節省擺放空間;也可選擇傳統式螢幕,因應不同操作習慣的客戶使用。選擇搭配 20 個樣品的自動進樣裝置,可提高樣品分析產能;選配的自動清潔裝置,可減少人工清潔工作。應用符合 ASTM 及 ISO 規範。

氧/氮分析儀 ON736 Series

氧/氮分析儀 ON736 Series

最新推出的氧氮分析儀,利用惰性氣體熔融原理,可同時分析金屬、非金屬合金類、耐高溫材料及其它無機材料中氧及氮的含量。採用 6 向式觸控螢幕操作設備,方便使用者直接在設備前操作使用,節省擺放空間;也可選擇傳統式螢幕,因應不同操作習慣的客戶使用。選擇搭配 20 個樣品的自動進樣裝置,可提高樣品分析產能;選配的自動清潔裝置,可減少人工清潔工作。應用符合 ASTM 及 ISO 規範。

氧/氮/氫分析儀 ONH836 Series

氧/氮/氫分析儀 ONH836 Series

利用惰性氣體熔融原理,可同時分析金屬、非金屬合金類、耐高溫材料及其它無機材料中氧、氮及氫的含量。新一代的 ONH836,改用 6 向式觸控螢幕操作設備,方便使用者直接在設備前操作使用,節省擺放空間;也可選擇傳統式螢幕,因應不同操作習慣的客戶使用。選擇搭配 20 個樣品的自動進樣裝置,可提高樣品分析產能;自動清潔裝置,可減少人工清潔工作。新型水冷式電極爐冷卻設計,提升設備穩定性,連續快速分析也不會影響到準確度及精密度。應用符合 ASTM 及 ISO 規範。

氧/氮/氫分析儀 ONH836 Series

氧/氮/氫分析儀 ONH836 Series

利用惰性氣體熔融原理,可同時分析金屬、非金屬合金類、耐高溫材料及其它無機材料中氧、氮及氫的含量。新一代的 ONH836,改用 6 向式觸控螢幕操作設備,方便使用者直接在設備前操作使用,節省擺放空間;也可選擇傳統式螢幕,因應不同操作習慣的客戶使用。選擇搭配 20 個樣品的自動進樣裝置,可提高樣品分析產能;自動清潔裝置,可減少人工清潔工作。新型水冷式電極爐冷卻設計,提升設備穩定性,連續快速分析也不會影響到準確度及精密度。應用符合 ASTM 及 ISO 規範。

氫分析儀 Total Hydrogen

殘餘/擴散氫分析儀 DH603

殘餘/擴散氫分析儀 DH603

這是一部專為快速、準確分析鐵基合金中殘餘氫、擴散氫及總氫含量的設備。新一代爐溫控制系統,可快速將溫度從室溫升高至 1100°C,設備可使用氣標校正,不需使用標準樣品。針對液態金屬採樣工作,LECO 提供多種快速又方便的特殊採樣工具。設備體積小,軟體操作簡單,支援中文介面,應用符合 ISO 規範。

殘餘/擴散氫分析儀 DH603

殘餘/擴散氫分析儀 DH603

這是一部專為快速、準確分析鐵基合金中殘餘氫、擴散氫及總氫含量的設備。新一代爐溫控制系統,可快速將溫度從室溫升高至 1100°C,設備可使用氣標校正,不需使用標準樣品。針對液態金屬採樣工作,LECO 提供多種快速又方便的特殊採樣工具。設備體積小,軟體操作簡單,支援中文介面,應用符合 ISO 規範。

氫分析儀 RHEN602

氫分析儀 RHEN602

此設備專門用來分析鋁基、其它金屬、耐高溫材料及無機材料中的氫含量,改良後的燃燒爐,提升樣品重量限制,增進準確度及精密度,尤其是分析低含量 (< 2 ppm) 的金屬樣品。針對某些應用分析材質,樣品重量最多可增加至 6 g。提供線上即時診斷功能,可減短維修時間,軟體操作簡單,支援中文介面,應用符合 ASTM 規範。

氫分析儀 RHEN602

氫分析儀 RHEN602

此設備專門用來分析鋁基、其它金屬、耐高溫材料及無機材料中的氫含量,改良後的燃燒爐,提升樣品重量限制,增進準確度及精密度,尤其是分析低含量 (< 2 ppm) 的金屬樣品。針對某些應用分析材質,樣品重量最多可增加至 6 g。提供線上即時診斷功能,可減短維修時間,軟體操作簡單,支援中文介面,應用符合 ASTM 規範。

輝光放電分光儀 Glow Discharge Atomic Emission Spectroscopy

輝光放電分光儀 GDS900

輝光放電分光儀 GDS900

全新推出的GDS900,採用CCD偵測器設計,全波長範圍160 - 460 nm,自動清潔裝置在每次分析間清潔陽極,節省人力,提升分析結果的精度。新款操作介面,改用直觀式觸控螢幕,方便使用者直接在設備前操作使用,節省擺放空間,簡化資料輸出,還可自動計算相關統計數據。創新設計的氮氣儲存槽,在分析成本上,每年可減少氮氣消耗量1,200%以上,將每次分析的成本大幅降低至58%左右,提高整體系統穩定性並延長設備正常運行時間。

輝光放電分光儀 GDS900

輝光放電分光儀 GDS900

全新推出的GDS900,採用CCD偵測器設計,全波長範圍160 - 460 nm,自動清潔裝置在每次分析間清潔陽極,節省人力,提升分析結果的精度。新款操作介面,改用直觀式觸控螢幕,方便使用者直接在設備前操作使用,節省擺放空間,簡化資料輸出,還可自動計算相關統計數據。創新設計的氮氣儲存槽,在分析成本上,每年可減少氮氣消耗量1,200%以上,將每次分析的成本大幅降低至58%左右,提高整體系統穩定性並延長設備正常運行時間。

輝光放電分光儀 GDS850

輝光放電分光儀 GDS850

專為客戶研發及製程品管工作設計,利用低壓輝光放電技術,樣品材質表面處低溫地被均勻激發噴濺出來,不只分析大多數金屬材料中各個元素組成成份,還可分析導體、半導體或是非導體材質的表面鍍層膜厚及縱深分佈,最多可分析 58 個元素,波長範圍從 120 – 800 nm。自動清潔裝置在每次分析間清潔陽極,節省人力,使噴濺形成平順模樣,達到穩定的分析結果。軟體內建噴濺速率圖庫,可節省客戶人力、時間及成本的花費,又能確保準確度及精密度。

輝光放電分光儀 GDS850

輝光放電分光儀 GDS850

專為客戶研發及製程品管工作設計,利用低壓輝光放電技術,樣品材質表面處低溫地被均勻激發噴濺出來,不只分析大多數金屬材料中各個元素組成成份,還可分析導體、半導體或是非導體材質的表面鍍層膜厚及縱深分佈,最多可分析 58 個元素,波長範圍從 120 – 800 nm。自動清潔裝置在每次分析間清潔陽極,節省人力,使噴濺形成平順模樣,達到穩定的分析結果。軟體內建噴濺速率圖庫,可節省客戶人力、時間及成本的花費,又能確保準確度及精密度。