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產品介紹 > 無機分析及輝光放電產品

碳/硫分析儀 Carbon/Sulfur

碳/硫分析儀 CS744 Series

碳/硫分析儀 CS744 Series

可分析金屬、礦物類及其它無機材料。嶄新設計的 CS744 設備，改用 6 向式觸控螢幕操作設備，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間；也可選擇傳統式螢幕，以因應不同操作習慣的客戶使用。全新設計的自動清潔裝置，拆裝更加簡單方便，粉塵清潔效果提升，新型的氣體流量控制器設計，可提高硫含量分析的穩定性及準確性。應用符合 ASTM、ISO 及 UOP 規範。

碳/硫分析儀 CS744 Series

碳/硫分析儀 CS744 Series

可分析金屬、礦物類及其它無機材料。嶄新設計的 CS744 設備，改用 6 向式觸控螢幕操作設備，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間；也可選擇傳統式螢幕，以因應不同操作習慣的客戶使用。全新設計的自動清潔裝置，拆裝更加簡單方便，粉塵清潔效果提升，新型的氣體流量控制器設計，可提高硫含量分析的穩定性及準確性。應用符合 ASTM、ISO 及 UOP 規範。

碳/硫分析儀 CS844 Series

碳/硫分析儀 CS844 Series

全新設計的 CS844 設備，配合客戶多樣化的分析需求，使用燃燒技術，針對主要鋼鐵、精密金屬、礦物類及其它無機材料分析。新款操作介面，改用 6 向式觸控螢幕，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間；也可選擇傳統式螢幕，以因應不同操作習慣的客戶使用。新一代的紅外線光源偵測器，提升其穩定性及使用性，還可選配 10 個或 60 個樣品的自動進樣裝置。應用符合 ASTM、ISO 及 UOP 規範。

碳/硫分析儀 CS844 Series

碳/硫分析儀 CS844 Series

全新設計的 CS844 設備，配合客戶多樣化的分析需求，使用燃燒技術，針對主要鋼鐵、精密金屬、礦物類及其它無機材料分析。新款操作介面，改用 6 向式觸控螢幕，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間；也可選擇傳統式螢幕，以因應不同操作習慣的客戶使用。新一代的紅外線光源偵測器，提升其穩定性及使用性，還可選配 10 個或 60 個樣品的自動進樣裝置。應用符合 ASTM、ISO 及 UOP 規範。

多相碳/水分析儀Multi-Phase Carbon/Water

碳水分析儀 RC612

碳水分析儀 RC612

可分析有機、無機樣品中各種形態的碳含量及含水量，並且可以鑑定出幾種類型的碳含量來源，不論是表面碳、游離碳、有機碳及無機碳都能區分出來。新型的 RC612 設備應用廣泛，對於粉末狀、長條狀或管柱狀樣品類型都可進行分析。其中，針對焊劑或電極焊接劑中的含水量應用，也符合 AWS (ANSI) 規範方法。設備體積小，軟體操作簡單，設備穩定性佳。
碳水分析儀 RC612

碳水分析儀 RC612

可分析有機、無機樣品中各種形態的碳含量及含水量，並且可以鑑定出幾種類型的碳含量來源，不論是表面碳、游離碳、有機碳及無機碳都能區分出來。新型的 RC612 設備應用廣泛，對於粉末狀、長條狀或管柱狀樣品類型都可進行分析。其中，針對焊劑或電極焊接劑中的含水量應用，也符合 AWS (ANSI) 規範方法。設備體積小，軟體操作簡單，設備穩定性佳。

低含量氧分析儀Low Level Oxygen

低含量氧分析儀 O836Si

低含量氧分析儀 O836Si

這是一部專為矽晶工業(Silicon Wafers)為追求靈敏度及精密度所量身設計的低氧含量設備。同樣地，也可適用於追求靈敏度及精密度金屬工業，尤其對於電子工業中高純度銅的低氧含量分析。有關此設備更多詳細資料，請與我們連絡。
低含量氧分析儀 O836Si

低含量氧分析儀 O836Si

這是一部專為矽晶工業(Silicon Wafers)為追求靈敏度及精密度所量身設計的低氧含量設備。同樣地，也可適用於追求靈敏度及精密度金屬工業，尤其對於電子工業中高純度銅的低氧含量分析。有關此設備更多詳細資料，請與我們連絡。

氧/氮/氫分析儀Oxygen/Nitrogen/Hydrogen

氧/氮分析儀 ON736 Series

氧/氮分析儀 ON736 Series

最新推出的氧氮分析儀，利用惰性氣體熔融原理，可同時分析金屬、非金屬合金類、耐高溫材料及其它無機材料中氧及氮的含量。採用 6 向式觸控螢幕操作設備，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間；也可選擇傳統式螢幕，因應不同操作習慣的客戶使用。選擇搭配 20 個樣品的自動進樣裝置，可提高樣品分析產能；選配的自動清潔裝置，可減少人工清潔工作。應用符合 ASTM 及 ISO 規範。
氧/氮分析儀 ON736 Series

氧/氮分析儀 ON736 Series

最新推出的氧氮分析儀，利用惰性氣體熔融原理，可同時分析金屬、非金屬合金類、耐高溫材料及其它無機材料中氧及氮的含量。採用 6 向式觸控螢幕操作設備，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間；也可選擇傳統式螢幕，因應不同操作習慣的客戶使用。選擇搭配 20 個樣品的自動進樣裝置，可提高樣品分析產能；選配的自動清潔裝置，可減少人工清潔工作。應用符合 ASTM 及 ISO 規範。
氧/氮/氫分析儀 ONH836 Series

氧/氮/氫分析儀 ONH836 Series

利用惰性氣體熔融原理，可同時分析金屬、非金屬合金類、耐高溫材料及其它無機材料中氧、氮及氫的含量。新一代的 ONH836，改用 6 向式觸控螢幕操作設備，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間；也可選擇傳統式螢幕，因應不同操作習慣的客戶使用。選擇搭配 20 個樣品的自動進樣裝置，可提高樣品分析產能；自動清潔裝置，可減少人工清潔工作。新型水冷式電極爐冷卻設計，提升設備穩定性，連續快速分析也不會影響到準確度及精密度。應用符合 ASTM 及 ISO 規範。
氧/氮/氫分析儀 ONH836 Series

氧/氮/氫分析儀 ONH836 Series

利用惰性氣體熔融原理，可同時分析金屬、非金屬合金類、耐高溫材料及其它無機材料中氧、氮及氫的含量。新一代的 ONH836，改用 6 向式觸控螢幕操作設備，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間；也可選擇傳統式螢幕，因應不同操作習慣的客戶使用。選擇搭配 20 個樣品的自動進樣裝置，可提高樣品分析產能；自動清潔裝置，可減少人工清潔工作。新型水冷式電極爐冷卻設計，提升設備穩定性，連續快速分析也不會影響到準確度及精密度。應用符合 ASTM 及 ISO 規範。

氫分析儀 Total Hydrogen

殘餘/擴散氫分析儀 DH603

殘餘/擴散氫分析儀 DH603

這是一部專為快速、準確分析鐵基合金中殘餘氫、擴散氫及總氫含量的設備。新一代爐溫控制系統，可快速將溫度從室溫升高至 1100°C，設備可使用氣標校正，不需使用標準樣品。針對液態金屬採樣工作，LECO 提供多種快速又方便的特殊採樣工具。設備體積小，軟體操作簡單，支援中文介面，應用符合 ISO 規範。
殘餘/擴散氫分析儀 DH603

殘餘/擴散氫分析儀 DH603

這是一部專為快速、準確分析鐵基合金中殘餘氫、擴散氫及總氫含量的設備。新一代爐溫控制系統，可快速將溫度從室溫升高至 1100°C，設備可使用氣標校正，不需使用標準樣品。針對液態金屬採樣工作，LECO 提供多種快速又方便的特殊採樣工具。設備體積小，軟體操作簡單，支援中文介面，應用符合 ISO 規範。
氫分析儀 H836EN

氫分析儀 H836EN

最新設計的H836EN是專門用來分析鋁基、其它金屬、耐高溫材料及無機材料中的氫含量，針對某些應用分析材質，樣品重量最多可增加至 5 g。具有更低的檢測極限 ( > 0.01 ppm)，可以分析更大的樣品直徑尺寸 (鋁塊或耗乏鈾顆粒)。新款操作介面，改用 6 向式觸控螢幕，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間；也可選擇傳統式螢幕，以因應不同操作習慣的客戶使用。軟體操作簡單，支援中文介面，應用符合ASTM規範。
氫分析儀 H836EN

氫分析儀 H836EN

最新設計的H836EN是專門用來分析鋁基、其它金屬、耐高溫材料及無機材料中的氫含量，針對某些應用分析材質，樣品重量最多可增加至 5 g。具有更低的檢測極限 ( > 0.01 ppm)，可以分析更大的樣品直徑尺寸 (鋁塊或耗乏鈾顆粒)。新款操作介面，改用 6 向式觸控螢幕，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間；也可選擇傳統式螢幕，以因應不同操作習慣的客戶使用。軟體操作簡單，支援中文介面，應用符合ASTM規範。

輝光放電分光儀 Glow Discharge Atomic Emission Spectroscopy

輝光放電分光儀 GDS900

輝光放電分光儀 GDS900

全新推出的 GDS900，採用 CCD 偵測器設計，全波長範圍 160 - 460 nm，適合金屬材質的成份分析，自動清潔裝置在每次分析間清潔陽極，節省人力，提升分析結果的精度。全新操作介面，改用直觀式觸控螢幕，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間，簡化資料輸出，還可自動計算相關統計數據。創新設計的氬氣儲存槽，採用內循環氬氣淨化光譜儀可延長光學元件的使用壽命，且無需太多的配件，可提高整體系統穩定性並延長設備正常運行時間，大幅節省使用成本。
輝光放電分光儀 GDS900

輝光放電分光儀 GDS900

全新推出的 GDS900，採用 CCD 偵測器設計，全波長範圍 160 - 460 nm，適合金屬材質的成份分析，自動清潔裝置在每次分析間清潔陽極，節省人力，提升分析結果的精度。全新操作介面，改用直觀式觸控螢幕，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間，簡化資料輸出，還可自動計算相關統計數據。創新設計的氬氣儲存槽，採用內循環氬氣淨化光譜儀可延長光學元件的使用壽命，且無需太多的配件，可提高整體系統穩定性並延長設備正常運行時間，大幅節省使用成本。
輝光放電分光儀 GDS950

輝光放電分光儀 GDS950

全新推出的 GDS950，採用 CCD 偵測器設計，全波長範圍 120 - 850 nm (取決於應用)，除了可進行金屬材質的成份分析，還可選配表面縱深分佈 (CDP) 分析應用，不論是導體或是非導體材質都能適用。自動清潔裝置在每次分析間清潔陽極，節省人力，提升分析結果的精度。全新操作介面，改用直觀式觸控螢幕，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間，簡化資料輸出，還可自動計算相關統計數據。創新設計的氬氣儲存槽，可提高整體系統穩定性並延長設備正常運行時間，大幅節省使用成本。

輝光放電分光儀 GDS950

輝光放電分光儀 GDS950

全新推出的 GDS950，採用 CCD 偵測器設計，全波長範圍 120 - 850 nm (取決於應用)，除了可進行金屬材質的成份分析，還可選配表面縱深分佈 (CDP) 分析應用，不論是導體或是非導體材質都能適用。自動清潔裝置在每次分析間清潔陽極，節省人力，提升分析結果的精度。全新操作介面，改用直觀式觸控螢幕，方便使用者直接在設備前操作使用，節省擺放空間，簡化資料輸出，還可自動計算相關統計數據。創新設計的氬氣儲存槽，可提高整體系統穩定性並延長設備正常運行時間，大幅節省使用成本。